第四十七章 蒲伟才（1/3）

1月15日，星期六。

合痩市。

乘坐高铁的卫明，来到了这座城市。

为此他特意跟樊姐请了两天假，提前处理了三十多名结石病人，合计腾出了三天时间，就为了解决掉一个问题。

人才！

高端光刻机的研发人才。

而且卫明已经有了明确的招募目标，他认为的最合适最优秀的人才，就在合瘦市这边。

此人名叫蒲伟才。

卫明是在网上查找相关信息的过程中，看到了多条关于此人的新闻。

也注意到此人带领的研发团队，取得的跟光刻机相关的多项研究成果，明白了此人的牛叉之处。

因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识，了解到了EUV光刻机的几大核心技术。

一个，组装。

光刻机最重要的技术之一是组装，就是把所有的元件组装起来，然后使分辨率达到最高，同时套刻精度达到最佳。

比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。一台光刻机中，包含十几个分系统，几万个机械件，数百个的传感器，每一个都要稳定。

二，控制。

光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，对于误差的要求可想而知。

比如光刻机里有2个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。

三，光源。

制造EUV需要极高的能量。EUV能被空气吸收，所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是，EUV还能被透镜吸收，所以只能用十几次面透镜，通过不断反射将光源集中。

每反射1次，EUV的能量就会损失3成。十几次反射后，到达晶圆的光线理论上只剩下2%。从能连赶上看，寒国某半导体企业曾经说过，极紫外光EUV的能源转换效率只有%左右。